2026年光学工程、先进成像与视觉系统国际学术会议(OEAIVS 2026)
发布时间:2026/01/21
2026年光学工程、先进成像与视觉系统国际学术会议(OEAIVS 2026)
2026 International Conference on Optical Engineering, Advanced Imaging and Vision Systems(OEAIVS 2026)
会议信息
大会官网:www.confs-online.com/oeaivs
大会地址:天津
最终截稿时间:以官网时间为准(延期投稿请咨询组委会田老师)
接受/拒稿通知:投稿后3个工作日左右
投稿邮箱:cq_committee@126.com【投稿请备注:OEAIVS投稿+通讯作者姓名+田老师推荐,方便安排审稿,可享优惠价及优先审稿与录用权】
会议简介
2026年光学工程、先进成像与视觉系统国际学术会议(OEAIVS 2026)旨在将研究人员、科学家和学者学生聚集在一起,交流和分享他们在光学工程、先进成像与视觉系统各个方面的经验、新想法和研究成果,并讨论遇到的实际挑战和采取的解决方案。我们热烈欢迎相关领域专家学者向OEAIVS 2026提交他们的新研究或技术贡献,与来自世界各地的科学家和学者分享宝贵的经验。
参会方式
1、全文参会(参会+全文发表+报告)
投递全文并参会,录用注册的文章发表在会议论文集上,提交EI Compendex、CPCI、Scopus、CNKI、Google Scholar等收录;
一篇文章的注册费含一位作者的参会(旁听)费用,如需汇报需准备10分钟左右的演讲及PPT;
2、摘要参会(参会+摘要+报告)
投递摘要并参会,安排10分钟左右口头报告;
3、听众参会:无报告仅参会
注:会后我们将开具发票、邀请函、参会证明等材料并发送给参会人员。
文章出版
出版物:所有被会议录用的英文稿件将会发表在会议论文集上, 更多详情请与我们联系(手机/微信:17162865530)。
收录检索:EI Compendex、CPCI、Scopus、CNKI、Google Scholar等。
投稿须知:
1. 论文必须是英语稿件,不得少于6页(中文投稿可提供专业翻译服务);
2. 本次论文未在国内外学术期刊和会议发表过;
3. 作者可通过CrossCheck, Turnitin或其他查询系统自费查重,否则由文章重复率引起的被拒稿将由作者自行承担责任。论文全文重复率不超过20%;
4. 涉嫌抄袭的论文将不被出版,且公布在会议主页;
5. 发表论文的作者需提交全文进行同行评审,只做报告不发表论文的作者只需提交摘要;
6. 论文模板下载及投稿指引:请前往大会官网首页。
大会主题(研究领域包括但不限于以下主题)
主题1:光学工程
信息光学
物理光学
应用光学
光谱学
光学仪器及技术
激光及激光器技术
光传感器
微结构光学
光伏技术
集成光学
现代光学技术
新型光纤传感器件
微纳光学器件
随机激光
液晶激光纤材料
量子光学
集成光电子器件及传感
光学测量技术及其应用
非线性光学
光量子物理与应用
光能源转换材料
光存储与光显示
光电工程
生物医学光子学
主题2:先进成像和视觉系统
光学成像技术和系统
先进成像的光学系统设计
计算成像和逆问题
红外成像和传感器技术
工业和环境应用的光子传感器
3D和全息影像
图像融合和多模态成像
联系方式
组委会:田老师
手机/微信:17162865530
QQ:3766818743
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武汉材料保护研究所 18200

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香港机械工程师协会 2268

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恒信通讯公司 21379

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武汉红矮星传媒有限公司 8279

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启蒙国际 2299

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浙江大学 8589

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珠海铭鼎科技有限公司 23534

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北京邮电大学 18651

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国际工学技术出版协会 2441

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国际工学技术出版协会 23268

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武汉青博盛学术服务有限公司 2361

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武汉新材料科学学会 2372




















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