2026光学工程、光子技术与激光应用国际会议（OEPTLA 2026）

2026光学工程、光子技术与激光应用国际会议（OEPTLA 2026）

2026 International Conference on Optical Engineering, Photonic Technology and Laser Applications（OEPTLA 2026）

【会议亮点】

1、IEEE、IOP、SPIE等******出版社

2、有ISSN、ISBN号

3、高录用|快见刊

4、团队/学生投稿优惠！！！

5、其他资源请咨询会议墨老师：SCI、SSCI、AHCI、中文核心、普刊

6、可口头汇报/旁听

【重要信息】

网址：www.confs-online.com/oeptla

会议地点：杭州，中国

（延期投稿者/咨询相关会议 请联系大会老师）

（投稿主题请注明：OEPTLA 2026+通讯作者姓名+墨老师推荐，否则无法确认您的稿件）

接受/拒稿通知：投稿后3-5天内！

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【论文收录】

1.向OEPTLA 2026提交的所有全文都可以用英语书写，并将发送给至少两名评审员，并根据原创性、技术或研究内容或深度、正确性、与会议的相关性、贡献和可读性进行评估。OEPTLA 2026所有被接受的论文将在会议记录中发表，并提交给Scopus、EI Compendex、CPCI、CNKI、Google Scholar进行索引。

2.审稿流程：作者投稿-稿件收到确认（1个工作日）-初审(1-3工作日) -告知结果（接受/拒稿），越早投稿越早收到文章结果。

【大会简介】

2026光学工程、光子技术与激光应用国际会议（OEPTLA 2026）将在中国杭州召开。本次会议旨在汇聚全球范围内相关领域的研究人员、科学家、工程师与学者，共同探讨前沿科学技术与创新应用，推动学术交流与产学研合作。会议将展示最新研究成果、交流技术经验、展望未来发展方向，为与会者提供一个高水平的国际化学术平台。我们诚挚邀请海内外专家学者踊跃参与，携手促进该领域理论创新、技术突破与产业应用。

【征文主题】

（以下主题包括但不限于）

主题一：光学工程

光学系统设计与仿真

先进光学制造与检测

精密光学计量与测试

成像光学与系统（显微镜、望远镜、摄像头等）

光谱技术与仪器

自适应光学与波前传感

光学材料与薄膜技术

微纳光学与超构表面

光学MEMS与MOEMS

空间光学与遥感仪器

题目二：光子技术

集成光子学与硅光技术

光纤技术与光纤传感

光通信器件与系统

光子晶体与 metamaterials

光电子器件（激光器、探测器、调制器等）

量子光学与量子信息处理

生物光子学与医学成像

微波光子学

非线性光学与应用

太赫兹技术与应用

主题三：激光应用

激光原理与新型激光器

超快激光与超强激光技术

激光加工与智能制造（切割、焊接、3D打印等）

激光雷达（LiDAR）与遥感

激光光谱与环境监测

激光医学与生物医疗（手术、治疗、成像等）

激光显示与照明

激光核聚变与能源

精密激光测距与计量

激光安全与防护

【投稿说明】

1.本会议官方语言为英语，投稿者务必用英语撰写论文。如需翻译服务，请联系会议组墨老师。

2.论文应具有学术或实用价值，未在国内外学术期刊或会议发表过。作者可通过CrossCheck, Turnitin或其他查询系统自费查重，否则由文章重复率引起的被拒搞将由作者自行承担责任。涉嫌抄袭的论文将不被出版。

3.文章至少6页。请根据格式模板文件编辑您的文章。学生作者或多篇投稿有优惠。

4.只做报告不发表论文的作者只需提交摘要。

5.投稿主题请注明:OEPTLA 2026+通讯作者姓名+墨老师推荐（否则无法确认您的稿件）