2026年光刻胶、电子化学品与湿电子化学品国际学术会议（ECPWE 2026）

ECPWE 2026

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2026年电子化学品、光刻胶与湿电子化学品国际学术会议（ECPWE 2026）

2026 International Conference on Electronic Chemicals, Photoresists and Wet Electronic Chemicals

会议简介
ECPWE 2026将在成都举行。成都作为中国西部电子信息产业的核心城市，在集成电路、显示面板等领域形成了完整的产业链，为电子化学品研究提供了良好的产业生态。
本届会议聚焦电子级化学品的纯度控制、光刻胶的分辨率提升及湿电子化学品的工艺优化，涵盖ArF、EUV光刻胶的树脂设计、光致产酸剂开发、线边缘粗糙度控制等关键技术。议题还包括高纯电子气体、CMP抛光液、清洗液、蚀刻液等配套材料的国产化替代进展。会议旨在突破半导体材料领域的"卡脖子"技术，支撑中国集成电路产业的自主可控发展。

大会信息
会议全称： 2026年电子化学品、光刻胶与湿电子化学品国际学术会议
会议简称： ECPWE 2026
收录检索： EI Compendex、Scopus、Inspec、CNKI、Google Scholar
大会地点：中国·成都
出版优势： ************ · ******出版 · 稳定检索
刊号资质： ISSN/ISBN双刊号
优惠政策：团队投稿/学生投稿享专属优惠

征稿主题
会议主题包括但不限于以下方向：
电子化学品：高纯电子气体、电子级溶剂、电子级酸、电子级碱、电子级特种气体、纯度控制技术

光刻胶： g线/i线光刻胶、KrF光刻胶、ArF光刻胶、EUV光刻胶、树脂设计、光致产酸剂、线边缘粗糙度控制、分辨率提升

湿电子化学品： CMP抛光液、清洗液、蚀刻液、剥离液、显影液、再生技术、国产化替代
其他与电子化学品、光刻胶及湿电子化学品相关的主题均可投稿。

参与方式
旁听参会：不投稿、不参与演讲及展示，仅聆听学术交流。
汇报参会：提交摘要，进行10–15分钟口头报告演讲。
投稿参会：文章收录于会议论文集，出刊后统一提交数据库检索。

检索与出版
所有投稿经2–3位组委会专家严格审稿，录用后以会议论文集形式出版。出版后提交至EI Compendex、Scopus、Inspec等******数据库检索。
优质期刊推荐：
【SCI/SSCI/A&HCI/EI】精准匹配研究方向，涵盖各分区、各领域顶刊；
【国内核心】北大核心、科技核心最新目录期刊；
【优质普刊】知网/万方/维普收录，国际英文期刊安排
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论文提交指南
全文投稿：
稿件须为全英文，Word格式；
可投至会议邮箱或官网；
邮件标题格式：作者姓名 + 联系方式 + 投稿；

摘要投稿（仅作报告）：

无需发表文章者，请将摘要投递至组委会邮箱。摘要无严格格式要求，需包含标题、内容、关键词、作者信息。篇幅建议控制在1页以内，最长不超过2页。