第一轮通知
（2023年10月20～22日）

以高功率脉冲磁控溅射技术（HiPIMS）为代表的高离化磁控溅射技术作为一种新的物理气相沉积技术，可以明显提高薄膜结构可控性，进而获得优异的薄膜性能，在国内外研究领域和工业界受到了广泛关注和重视。为推动该技术的进步，国际上已经形成了HiPIMS Today等一系列的国际会议对该技术放电机理、脉冲形式、等离子体输运与诊断、以及薄膜/涂层沉积与应用等多个方面进行专题研讨，为其发展与应用带来了蓬勃动力！
中国机械工程学会表面工程分会作为全国性的学术组织，于2017年提出在国内举办高功率脉冲磁控溅射技术与应用专题研讨会，并连续在上海、兰州和深圳成功举办三届，交流报告数量和质量显著提升，交流内容涉及高功率脉冲磁控溅射过程中电子与离子的相互作用，深振荡、中频叠加等电源与阴极靶结构协同控制等基础研究，工艺参数对膜层性能的影响、工业化存在的主要问题及对策等。参会人员由80人迅速增加到200余人，通过会议交流、深入讨论及与国际知名企业的对接，推动了我国高功率脉冲磁控溅射技术的发展。
近年来，国家对科技创新日益关注，习近平总书记多次强调创新的重要性，科技创新被提到了十分重要的位置。重庆作为中西部******的直辖市、国家先进制造业中心，在国家区域发展和对外开放格局中具有独特而重要的作用，必将为本次创新型会议提供良好的交流氛围；同时，本次具有技术前瞻性的学术会议在重庆召开，也将推动当地薄膜技术的发展进步。
经中国机械工程学会表面工程分会与西南大学材料与能源学院协商，定于2023年10月20～22日在重庆召开“2023高功率脉冲磁控溅射技术与应用会议”。热忱欢迎国内外从事薄膜技术研究与应用的科技工作者参会，同时，也欢迎有意推动我国薄膜技术发展的企业参加会议和提供支持！

【报告征集】

为进一步扩大会议影响，本次专题会议面向社会征集演讲报告，范围包括：
1、等离子体放电与诊断；
2、溅射靶材与工艺；
3、先进涂层与薄膜技术；
4、hipims电源与装备；
5、hipims涂层的应用与发展趋势等。

欢迎行业从业人员从技术应用层面出发积极参与交流，踊跃投稿。

截止时间：2023年9月30日（额满为止）

会议学术委员会：
主 席：
雷明凯 中国机械工程学会表面工程分会 主任委员
田修波 哈尔滨工业大学 教授
委  员：
段海涛   魏世丞  刘宣勇  刘  敏   乔培新   朱旻昊   
李红轩   张  津   张  伟   朱嘉琦   汪爱英   杨冠军
姜肃猛   魏建军  李长久  王立平   范多旺   吴  勇
孙  超   王周成   陈庆川   夏  原   张俊彦   谭  俊
冯煜东   李刘合   刘  莹   任  妮   刘彭义   范  平   

会议组织委员会：
主  席：
段金弟  中国机械工程学会表面工程分会 总干事
孙德恩  西南大学 教授
吴忠振  北京大学深圳研究生院 教授
委  员：
蔺  增   朱小鹏   唐振方   罗景庭   张广安   陈  辉
金  莹   雷占许   冷永祥   邓畅光   孙晓峰   谢玉江   
王启民   李昱鹏   岩  雨   唐光泽   古  乐   王铁钢
李玉阁   曹辉亮   邓春明   陈  茜   贺定勇  柯培玲
许  一   杭瑞强   曾志翔   林修洲   金  杰   马  飞   
亓建伟   苏峰华   马天宝   蒲吉斌   马国政   郑  军    
张旭海   涂杰松   冯  凯   鞠鹏飞   钟  萍   占  稳   
祁正兵   米新艳   杜  昊   吴爱民   张  侃   隋旭东
欧伊翔   张海宝   吴正涛   

会议秘书：
张存修  蒋  超