2026年半导体、光电融合与微纳制造国际会议（SOIMNM 2026）

2026 International Conference on Semiconductor, Optoelectronic Integration and Micro-Nano Manufacturing（SOIMNM 2026）

征稿主题范围广 | 高效审核 | 录用率高

IEEE、IOP、SPIE等******出版社

ISSN/ISBN双刊号 | 团队/学生投稿优惠

【重要信息】

网址：https://www.confs-online.com/soimnm

IEEE、IOP、SPIE等******出版社

会议地点：青岛，中国

截稿时间：以官网为准（延期投稿者/咨询相关会议 请联系会议墨老师）

投稿主题请注明：SOIMNM 2026+通讯作者姓名，否则无法确认您的稿件

接受/拒稿通知：投稿后3-5天内！

更多学术信息，团队/学生投稿专属优惠，欢迎咨询墨老师

【核心期刊&普刊推荐】

1、SCI/SSCI/A&HCI：涵盖各分区期刊，精准匹配研究方向

2、EI Compendex：工程索引******期刊/会议

3、北大核心，科技核心最新版目录期刊

4、高质量普刊（知网/万方/维普收录），国际英文期刊安排

【大会简介】

2026年半导体、光电融合与微纳制造国际会议（SOIMNM 2026）将在中国青岛召开。本次会议会致力于构筑全球******的学术对话与产业融通高地，诚邀海内外杰出学者、技术******及行业领袖齐聚一堂。会议将深度聚焦前沿理论突破与关键核心技术，系统展示最新科研转化成果，分享跨学科实践经验，共谋未来技术演进路径。我们旨在通过高强度的思想碰撞与资源整合，激发创新动能，推动产学研用一体化进程，诚邀您共襄盛举，携手开启领域发展的新纪元。

【论文收录】

1.向SOIMNM 2026提交的所有全文都可以用英语书写，并将发送给至少两名评审员，并根据原创性、技术或研究内容或深度、正确性、与会议的相关性、贡献和可读性进行评估。SOIMNM 2026所有被接受的论文将在会议记录中发表，并提交给Scopus、EI Compendex、CPCI、CNKI、Google Scholar进行索引。

2.审稿流程：作者投稿-稿件收到确认（1个工作日）-初审(1-3工作日) -告知结果（接受/拒稿），越早投稿越早收到文章结果。

【征文主题】

（以下主题包括但不限于）

主题一：半导体

半导体基础理论

半导体材料与特性

硅基半导体技术

宽禁带半导体（SiC/GaN）

化合物半导体（GaAs/InP）

有机与柔性半导体

二维半导体材料

半导体器件物理

半导体工艺技术

光刻与刻蚀技术

薄膜沉积与掺杂

半导体封装技术

半导体测试与可靠性

功率半导体器件

射频半导体器件

光电子半导体器件

MEMS与半导体融合

半导体设计自动化（EDA）

题目二：光电融合

光电融合基础理论

硅基光电子集成

光电融合芯片设计

光电融合器件（激光器/调制器/探测器）

光电融合材料

光电融合制造工艺

光电融合封装与测试

光电融合与CMOS兼容

光电融合与量子光子

光电融合与光通信

光电融合与光互连

光电融合与光传感

光电融合与光计算

光电融合标准化

光电融合项目管理

光电融合人才培养

主题三：微纳制造

微纳制造基础理论

微纳加工技术

微纳光刻技术

微纳刻蚀技术

微纳薄膜技术

微纳封装技术

微纳检测技术

微纳制造装备

微纳制造工艺优化

微纳制造在半导体中应用

微纳制造在光电中应用

微纳制造在MEMS中应用

微纳制造在生物医学中应用

微纳制造标准化

微纳制造项目管理

微纳制造人才培养

微纳制造应用案例

微纳制造前沿技术

微纳制造产业化

【投稿说明】

1.本会议官方语言为英语，投稿者务必用英语撰写论文。如需翻译服务，请联系会议组墨老师。

2.论文应具有学术或实用价值，未在国内外学术期刊或会议发表过。作者可通过CrossCheck, Turnitin或其他查询系统自费查重，否则由文章重复率引起的被拒搞将由作者自行承担责任。涉嫌抄袭的论文将不被出版。

3.文章至少6页。请根据格式模板文件编辑您的文章。学生作者或多篇投稿有优惠。

4.只做报告不发表论文的作者只需提交摘要。

5.投稿主题请注明:SOIMNM 2026+通讯作者姓名（否则无法确认您的稿件）