2026年光学工程、量子技术与工业应用国际会议（IEQIA 2026）

2026 International Conference on Optical Engineering, Quantum Technology and Industrial Applications（IEQIA 2026）

●重要信息

截稿时间：2026年12月4日（延期投稿请联系大会蒋老师）

召开时间/地点： 中国 · 广州 | 2026年12月19日（暂定）

审稿周期：投稿后约3个工作日左右

收录检索：EI Compendex、CPCI、Scopus、CNKI、Google Scholar等数据库稳定检索

核心亮点：ISSN/ISBN双刊号 | 高录用 | ******出版 | 检索稳定 | 符合评职、毕业、评优等要求 | 学生/团体投稿享优惠

** 如需发表SCI、SSCI、AHCI、中文核心期刊或国内三大网普刊，国际知网/谷歌普刊等刊物，欢迎咨询会务蒋老师，提供全品类精准匹配服务！

●会议简介

2026年光学工程、量子技术与工业应用国际会议（IEQIA 2026）将于中国广州举办，本届会议将聚焦光学工程前沿技术、量子信息与量子传感、以及相关领域在工业场景中的转化应用。大会旨在搭建跨学科的国际交流平台，汇聚全球学者与产业专家，共同探讨从基础研究到技术落地的关键挑战与创新路径。议题涵盖先进激光技术、光电子器件、量子通信与精密测量等方向，并特别关注量子技术赋能工业升级的实践案例。诚邀海内外同仁投稿参会，共促学术合作与产业协同。

●论文收录

所有投稿均须经过2-3位组委会专家审稿。录用论文将以会议论文集形式安排出版，见刊后提交至Scopus、EI Compendex、CPCI、CNKI、Google Scholar检索，目前检索稳定。

●征文主题（以下主题包括但不限于）

Track 1：光学工程与光电子技术

激光技术与激光制造

超快激光与非线性光学

光纤激光器与光纤传感

光学设计与超精密制造

微纳光学与集成光子学

光电子器件与模块集成

光电探测与成像技术

光学测量与计量

薄膜光学与涂层技术

超材料与光子晶体

硅光子学与光子集成电路（PIC）

全息技术与光场调控

计算光学与计算成像

光学材料与功能晶体

自适应光学与波前工程

光学在环境监测与工业检测中的应用

Track 2：量子技术与量子光子学

量子通信与量子密钥分发（QKD）

量子计算与量子算法

量子模拟与量子信息处理

量子传感与量子计量

单光子源与单光子探测

纠缠光子与量子关联

量子光学与光-物质相互作用

冷原子与冷分子物理

量子网络与量子互联网

集成量子光子学

量子超材料与拓扑光子学

量子精密测量与重力/磁场传感

量子成像与量子雷达

量子纠错与容错量子计算

量子机器学习与量子人工智能

量子硬件与系统集成

Track 3：工业应用与产业化

激光加工与增材制造中的光学技术

工业激光器与高功率激光系统

光学传感在工业过程监控中的应用

机器视觉与工业检测光学

LiDAR与自动驾驶光学系统

AR/VR/MR显示光学与光波导

光通信与数据中心光学互连

量子技术在工业中的早期应用（量子传感、量子安全通信）

光电仪器与设备产业化

光学测量在航空航天与能源领域的应用

生物医学光学与诊断仪器

光伏与光电能量转换

光学薄膜与精密光学元件制造

光电封装与系统集成制造

...

●投稿须知

1.会议官方语言为英语，请严格按模板格式排版，文章页数不少于6页。

2.如需翻译或润色服务，可联系会务蒋老师。

3.学生作者或多篇投稿可享注册优惠。

4.论文须为原创且未公开发表，禁止抄袭、一稿多投。投稿前请自行通过Turnitin查重，重复率过高导致的拒稿由作者自负，抄袭行为不予出版。

5.投稿流程：投稿→审稿→录用→缴费→注册参会→见刊→检索。

●参会方式

1.主讲嘉宾：申请主题演讲，由会务组审核。

2.口头演讲：申请口头报告，时间为10分钟左右。（参会名额有限，优先报名）

3.听众参会：不投稿仅参会，可旁听学习。