2026年精密仪器、光学测量与计量科学国际会议（ICPIOMMS 2026）

2026 International Conference on Precision Instruments, Optical Measurement and Metrology Science（ICPIOMMS 2026）

开会时间：2026年12月5日（暂定）武汉，中国（线上+线下）

一、会议重要信息

截稿时间：2026年11月15日（延期投稿者请咨询会议组江老师）

审核录用：投稿后约3个工作日

会议出版：IEEE、SPIE、ACM等权威出版社

会议收录：EI Compendex, Scopus, CPCI，Google Scholar, CrossRef, ResearchGate等数据库稳定检索

注：投稿文章均将以会议论文集形式正式出版，出版后收录有ISSN和ISBN双刊号。团队及学生投稿享有优惠，具体请咨询会议组江老师。若不投稿，亦欢迎报名参与口头汇报或旁听。如需了解SSCI/SCI期刊、中文核心期刊或三大网省级期刊等其他发表资源，也欢迎联系会议组老师咨询。

二、大会介绍

2026年精密仪器、光学测量与计量科学国际会议（ICPIOMMS 2026）将在中国武汉举行。会议将围绕精密仪器、光学测量与计量科学的相关领域展开讨论，探讨相关的前沿技术与创新应用，旨在为从事相关领域的专家学者及企业人员提供一个分享研究成果、讨论存在的问题与挑战、探索前沿科技的国际性合作交流平台。大会诚挚邀请您投递相关的研究工作，在会议上展示相关的科研成果、分享前沿的思想看法，一同探讨相关的学术难题。

三、征稿主题

（包括但不限于）：

主题一：精密仪器

精密仪器设计与原型开发、精密机械工程与伺服系统、精密光学工程、精密电子技术与精密控制技术、精密定位与测量技术、坐标测量技术与逆向工程、仪器建模与仿真、智能仪器与智能化技术、网络化仪器与分布式测量系统、微纳仪器与MEMS/NEMS传感集成、机器人传感与自主感知仪器、无损检测与表面技术仪器、可穿戴与植入式测量仪器、仪器可靠性与环境适应性、仪器人机交互与可视化；

主题二：光学测量

光学干涉测量与超分辨测量、激光跟踪与激光雷达测量、三维形貌与表面轮廓测量、结构光与条纹投影测量、数字全息与计算成像测量、光学散射与散斑测量、在线与工业光学测量、光学传感器与光纤传感测量、太赫兹与光谱测量技术、极端环境与复杂系统光学测量、机器视觉与智能光学检测、AI驱动的光学计量与计算成像、光学测量系统校准与误差补偿；

主题三：计量科学

测量不确定度评定与表示、量值溯源与计量标准、量子计量与量子增强传感、纳米计量与微纳尺度计量、几何量/力学量/电学量计量、高频与微波计量、时间频率计量、光学与光子计量标准、化学与生物计量、质量与密度计量、动态计量与在线校准、数字计量与数字校准证书、计量数据处理与溯源链数字化、计量技术法规与质量基础设施。

四、投稿流程

1.直接将您的文章或摘要投到我们的会议邮箱，我们收到后会第一时间回复您。

2.审稿流程：作者投稿-稿件收到确认（1个工作日）-初审(3个工作日)-告知结果（接受/拒稿），越早投稿越早收到文章结果。

五、投稿说明

1.本会议官方语言为英语，投稿者务必用英语撰写论文。如需翻译服务请联系会议组江老师详询。

2.向ICPIOMMS 2026提交的所有文章将发送给至少两名评审员，并根据原创性、技术或研究内容或深度、正确性、与会议的相关性、贡献和可读性进行评估。

3.论文应具有学术或实用价值，未在国内外学术期刊或会议发表过。作者可通过CrossCheck,Turnitin或其他查询系统自费查重，否则由文章重复率引起的被拒搞将由作者自行承担责任。涉嫌抄袭的论文将不被出版。

4.文章至少6页。论文模板请至官网下载。学生作者或多篇投稿有优惠。

5.只做报告不发表论文的作者只需提交摘要。

六、参会方式

1、主讲嘉宾：申请主题演讲，由组委会审核；

2、口头演讲：申请口头报告，时间为10分钟左右；（名额有限，优先报名）

3、听众参会：不投稿仅参会旁听；