1月19日下午，由清华大学分析中心主办的近常压XPS技术应用交流研讨会在化学馆举行。本次会议聚焦近年来备受关注的近常压X射线光电子能谱（NAP-XPS）技术，旨在推动该技术在材料科学、催化、能源及表界面研究领域的深入应用，搭建高水平学术交流与协作平台。会议通过线上线下结合方式举办，吸引了校内外师生100余人参会。

近常压XPS技术（NAP-XPS）作为一项突破传统XPS真空限制的原位表征方法，其最大优势在于能够在毫巴量级气压环境下，对固-气、固-液界面进行动态、实时的化学成分与电子态分析，从而有效填补实验室研究与实际工业反应环境之间的“压力鸿沟”。清华大学分析中心近期成功安装并验收了由德国SPECS公司生产、国内首套具备全功能模块的NAP-XPS设备，为开展高水平原位表面研究提供了有力的技术支撑。

研讨会开幕式上，清华大学分析中心主任李景虹院士与实验室管理处处长王玉军教授分别致辞，对分析中心在仪器平台建设与科研支撑服务方面的成绩给予肯定，并强调此次研讨会对于促进跨学科学术交流、激发创新思维具有重要意义。

国家电子能谱中心副主任、分析中心能谱分析平台主管、正高级工程师姚文清详细介绍了该NAP-XPS设备的功能特点与运行情况。

特邀报告环节，上海科技大学副研究员韩永、北京大学分析测试中心徐尧博士、德国SPECS公司应用技术工程师李昌分别作题为“近常压光电子能谱简介及固液界面研究应用”“原位XPS表征方法及在催化反应中的应用”“近常压XPS设备维护及保养”的报告。

会议现场