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清华大学两位清华人荣获2025年度何梁何利奖

2026/02/06

文章导读
当你还在为半导体产业被"卡脖子"而焦虑时,清华大学的两位学者已经用实际成果给出了答案。路新春教授团队研发的12英寸CMP装备不仅填补了国内空白,更让人惊讶的是,这套看似复杂的设备竟解决了国产半导体高端装备产业化的难题。而刘会娟教授的研究则从另一个角度切入——她的电化学工业废水处理技术,正在悄悄改变着工业环保的格局。这两位获奖者看似研究领域迥异,却共同揭示了一个被忽视的真相:真正的科技创新,往往不是追求最前沿的技术,而是找到最适合国情的解决方案。他们究竟是如何在各自领域实现关键突破的?这些成果背后,藏着哪些值得每个科研人借鉴的方法论?
— 内容由好学术AI分析文章内容生成,仅供参考。

2月2日,何梁何利基金2025年度颁奖大会在北京举行,54名杰出科技工作者荣获2025年度何梁何利基金科学与技术奖。其中,科学与技术进步奖32人,科学与技术创新奖22人。清华大学机械系首席研究员路新春、环境学院教授刘会娟分别荣获科学与技术创新奖。

清华大学两位清华人荣获2025年度何梁何利奖

路新春

路新春,1966年5月出生于山东烟台,清华大学机械工程系、清华大学高端装备界面科学与技术全国重点实验室首席研究员,博士生导师。1988年和1991年在吉林工业大学获得学士和硕士学位,1994年在中国科学院金属研究所获得博士学位,1996年清华大学摩擦学国家重点实验室博士后流动站出站。

路新春长期致力于纳米摩擦学与超精表面制造理论与技术研究,聚焦集成电路制造关键装备——化学机械抛光(CMP)与减薄装备及工艺的自主攻关。他主持了10余项国家级重大科研任务,在理论层面建立了化学机械抛光、超洁净清洗与精密减薄的基础理论体系;在技术层面,攻克了集成电路表面超精密制造的多区压力调控、超洁净清洗、减薄面形调控等一系列核心关键技术;在装备研制与产业化方面,率先推出国内首台拥有自主知识产权的12英寸CMP装备及磨削抛光一体化减薄装备,不仅填补了国内相关领域的技术空白,更成功推动国产半导体高端装备实现大规模产业化应用,有效解决了我国相关领域的“卡脖子”困境。

清华大学两位清华人荣获2025年度何梁何利奖

刘会娟

刘会娟,1972年生于河北,清华大学环境学院教授、区域环境安全全国重点实验室主任。1995年在河北工业大学获化学工程学士学位,1998年在大连理工大学获环境科学硕士学位,2003年在中国科学院研究生院获环境工程博士学位。

刘会娟长期致力于基于自然过程的饮用水质净化及风险控制原理和工艺、以电化学为核心的工业废水处理与资源回收技术等研究,曾获国家技术发明奖二等奖、国家科学技术进步奖二等奖、北京市三八红旗奖章、光华工程科技奖青年奖、中国青年科技奖等奖项。

何梁何利基金由香港爱国金融家何善衡、梁銶琚、何添、利国伟于1994年创立,旨在奖励中国杰出科学家,服务于国家现代化建设,是我国规模大、权威性高、公信力强的社会力量科技奖励,31年来表彰奖励了1692位优秀的科学家、工程师、产业领军人才,在激励自主创新、激发人才活力、弘扬科学家精神等方面发挥了重要的作用。


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