2025光学成像、模式分析与自动识别国际会议（OPPAAR 2025）

1.大会简介

会议将围绕“光学成像、模式分析与自动识别”等相关最新研究领域，为来自国内外高等院校、科学研究所、企事业单位的专家、教授、学者、工程师等提供一个分享专业经验，扩大专业网络，面对面交流新思想以及展示研究成果的国际平台，探讨本领域发展所面临的关键性挑战问题和研究方向，以期推动该领域理论、技术在高校和企业的发展和应用，也为参会者建立业务或研究上的联系以及寻找未来事业上的全球合作伙伴

2.大会信息

2025光学成像、模式分析与自动识别国际会议（OPPAAR 2025）

2025 International Conference on Optical Imaging, Pattern Analysis, and Automatic Recognition

大会地点：济南

会议官网：www.global-meetings.com/oppaar

召开日期：2025.6.18

截稿日期：2025.6.03

最终截稿时间：以官网为准

投稿邮箱：icmcem_info@163.com（备注：OPPAAR+姓名）

其他说明：需要延期投稿，参会证书，会议邀请函，会议通知或了解更多会议，请联系组委会老师

3.征稿主题

（以下包括但不限于）

主题一：光学成像

全息成像与干涉成像

非线性光学成像

纳米光学与显微成像

计算光学成像

生物医学光学成像

成像系统的设计与优化

新兴材料与光学成像应用

遥感与天文成像

卫星成像技术与地球观测

工业与安全检测中的光学成像

安全监控光学成像

光学成像中的数据处理与分析

图像处理算法与增强技术

成像数据的融合与可视化

多光谱和高光谱成像

光/声/电结合成像技术

自适应光学成像技术

超快光学成像

量子光学与量子成像

无人机与机器人光学成像

环境与农业中的光学成像

光子学与微波光子成像

激光光学成像技术

集成多传感器的成像系统

测地成像在空间观测中的应用

人工智能辅助成像设备设计

自动化制造与检测中的光学成像

主题二：模式分析

图像的深度学习处理技术

模式识别与分析

数据融合与多传感器系统

计算光学成像与重建

图像压缩与传输

波前传感与纠正技术

非线性光学信号处理

光电子器件中的信号优化与噪声抑制

主题三：自动识别

自动识别中的人工智能技术

生物识别(包括人脸识别)

文档处理与识别

网络安全

先进的学习方法

线性模型和降维

自然语言处理与识别

人脸和手势识别

模式识别

图像取证与识别

微机测控装置及系统

传感器技术及应用

自动检测与转换技术

目标识别

检测技术与自动化装置的研究与应用

4.投稿说明

1.文章需全英文投稿，请将英文稿件(Word)发送至组委会邮箱，邮件标题“会议名+作者姓名”

2.只汇报不需要发表文章，请将文章摘要投递到组委会邮箱

3.发表论文需全文投稿，文章至少六页（按照模板格式，带图和参考文献）学生作者或多篇投稿有优惠

4.投稿之后2-5个工作日左右您会收到我们的审核结果，如逾期未收到邮件通知，请您尽快联系我们

5.投稿前可提前与组委会老师沟通，确认文章方向与会议主题匹配，便于快速审稿及录用

5.会议出版

所有投稿都必须先经过2-3位专家审稿，评审录用后，文章将以会议论文集的形式出版，最终提交EI、CPCI、CNKI、Google检索

6.参会形式

1.旁听参会：不投稿且不参与演讲及展示。

2.汇报参会：10-15分钟口头报告演讲。

3.投稿参会