2026年电子化学品、光刻胶与湿电子化学品国际学术会议(ECPWE 2026)
发布时间:2026/06/29
2026年电子化学品、光刻胶与湿电子化学品国际学术会议(ECPWE 2026)
2026 International Conference on Electronic Chemicals, Photoresists and Wet Electronic Chemicals

会议简介
ECPWE 2026将在成都举行。成都作为中国西部电子信息产业的核心城市,在集成电路、显示面板等领域形成了完整的产业链,为电子化学品研究提供了良好的产业生态。
本届会议聚焦电子级化学品的纯度控制、光刻胶的分辨率提升及湿电子化学品的工艺优化,涵盖ArF、EUV光刻胶的树脂设计、光致产酸剂开发、线边缘粗糙度控制等关键技术。议题还包括高纯电子气体、CMP抛光液、清洗液、蚀刻液等配套材料的国产化替代进展。会议旨在突破半导体材料领域的"卡脖子"技术,支撑中国集成电路产业的自主可控发展。
大会信息
会议全称: 2026年电子化学品、光刻胶与湿电子化学品国际学术会议
会议简称: ECPWE 2026
收录检索: EI Compendex、Scopus、Inspec、CNKI、Google Scholar
大会地点: 中国·成都
出版优势: 高录用率 · 权威出版 · 稳定检索
刊号资质: ISSN/ISBN双刊号
优惠政策: 团队投稿/学生投稿享专属优惠
征稿主题
会议主题包括但不限于以下方向:
电子化学品: 高纯电子气体、电子级溶剂、电子级酸、电子级碱、电子级特种气体、纯度控制技术
光刻胶: g线/i线光刻胶、KrF光刻胶、ArF光刻胶、EUV光刻胶、树脂设计、光致产酸剂、线边缘粗糙度控制、分辨率提升
湿电子化学品: CMP抛光液、清洗液、蚀刻液、剥离液、显影液、再生技术、国产化替代
其他与电子化学品、光刻胶及湿电子化学品相关的主题均可投稿。
参与方式
旁听参会: 不投稿、不参与演讲及展示,仅聆听学术交流。
汇报参会: 提交摘要,进行10–15分钟口头报告演讲。
投稿参会: 文章收录于会议论文集,出刊后统一提交数据库检索。
检索与出版
所有投稿经2–3位组委会专家严格审稿,录用后以会议论文集形式出版。出版后提交至EI Compendex、Scopus、Inspec等权威数据库检索。
优质期刊推荐:
【SCI/SSCI/A&HCI/EI】精准匹配研究方向,涵盖各分区、各领域顶刊;
【国内核心】北大核心、科技核心最新目录期刊;
【优质普刊】知网/万方/维普收录,国际英文期刊安排
其他国际知网/谷歌普刊,稳妥高效
论文提交指南
全文投稿:
稿件须为全英文,Word格式;
可投至会议邮箱或官网;
邮件标题格式:作者姓名 + 联系方式 + 投稿;
摘要投稿(仅作报告):
无需发表文章者,请将摘要投递至组委会邮箱。摘要无严格格式要求,需包含标题、内容、关键词、作者信息。篇幅建议控制在1页以内,最长不超过2页。
联系方式:
联系人: 李老师
电话/微信: 185-8152-0396
QQ: 3959598883
官方邮箱: ecpwe@confsflow.com
会议官网: www.confsflow.com/ecpwe

电话/微信: 185-8152-0396
QQ: 3959598883
官方邮箱: ecpwe@confsflow.com
会议官网: www.confsflow.com/ecpwe

来源/发布:www.confsflow.com/ecpwe
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