2026极端制造、微纳系统与装备工程国际会议（EMMNSEE 2026）

2026 International Conference on Extreme Manufacturing, Micro-nano Systems and Equipment Engineering（EMMNSEE 2026）

【会议亮点】

1、IEEE、IOP、SPIE等权威出版社

2、有ISSN、ISBN号

3、高录用|快见刊

4、团队/学生投稿优惠！！！

5、其他资源请咨询会议墨老师：SCI、SSCI、AHCI、中文核心、普刊

6、可口头汇报/旁听

【重要信息】

会议地点：重庆，中国

（延期投稿者/咨询相关会议 请联系大会老师）

（投稿主题请注明：EMMNSEE 2026+通讯作者姓名+墨老师推荐，否则无法确认您的稿件）

接受/拒稿通知：投稿后3-5天内！

【论文收录】

1.向EMMNSEE 2026提交的所有全文都可以用英语书写，并将发送给至少两名评审员，并根据原创性、技术或研究内容或深度、正确性、与会议的相关性、贡献和可读性进行评估。EMMNSEE 2026所有被接受的论文将在会议记录中发表，并提交给Scopus、EI Compendex、CPCI、CNKI、Google Scholar进行索引。

2.审稿流程：作者投稿-稿件收到确认（1个工作日）-初审(1-3工作日) -告知结果（接受/拒稿），越早投稿越早收到文章结果。

【大会简介】

2026极端制造、微纳系统与装备工程国际会议（EMMNSEE 2026）将在中国重庆召开。本次会议旨在汇聚全球范围内相关领域的研究人员、科学家、工程师与学者，共同探讨前沿科学技术与创新应用，推动学术交流与产学研合作。会议将展示最新研究成果、交流技术经验、展望未来发展方向，为与会者提供一个高水平的国际化学术平台。我们诚挚邀请海内外专家学者踊跃参与，携手促进该领域理论创新、技术突破与产业应用。

【征文主题】

（以下主题包括但不限于）

主题一：极端制造

超精密加工技术与装备

巨系统制造与集成

强场制造与极端条件加工

微纳尺度增材制造

太空与深海制造

高性能构件高效加工

题目二：微纳系统

MEMS设计与工艺

NEMS与分子机器

微纳传感器与执行器

芯片实验室与微流控

微能源与能量收集

微纳光学系统

射频MEMS与太赫兹器件

微纳机器人系统

微纳系统封装与集成

主题三：装备工程

高端数控机床与基础制造装备

激光制造与增材制造装备

电子制造专用装备

机器人化智能制造装备

智能工厂物流装备

重大工程专用装备

装备智能运维与健康管理

装备核心基础部件

装备数字化设计与仿真

装备可靠性工程

装备智能控制系统化

【投稿说明】

1.本会议官方语言为英语，投稿者务必用英语撰写论文。如需翻译服务，请联系会议组墨老师。

2.论文应具有学术或实用价值，未在国内外学术期刊或会议发表过。作者可通过CrossCheck, Turnitin或其他查询系统自费查重，否则由文章重复率引起的被拒搞将由作者自行承担责任。涉嫌抄袭的论文将不被出版。

3.文章至少6页。请根据格式模板文件编辑您的文章。学生作者或多篇投稿有优惠。

4.只做报告不发表论文的作者只需提交摘要。

5.投稿主题请注明:EMMNSEE 2026+通讯作者姓名+墨老师推荐（否则无法确认您的稿件）