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TFC,11全国薄膜技术学术研讨会
会议日期:2011-8-26 至
2011-8-1
会议地点:南昌市
会议简介
TFC,11全国薄膜技术学术研讨会由中国真空学会薄膜专业委员会主办,南昌航空大学协办。定于2011年8月25日—8月27日在江西省南昌市举行。本次会议将是又一次全国薄膜学术界的盛会。会议将研讨、展示近二年来我国薄膜材料与技术的最新成就,会议已邀请多位在国内薄膜技术研究方面有较高造诣的学者、专家到会作精彩报告,还安排了分组报告,并组织参观考察。会议热情地欢迎有关的科研院所、大专院校、企业的人士到会。现将会议有关事宜通知如下:
【会议日期】2011年8月25日全天报到、8月26日—8月27日开会
【报到地点】南昌富豪酒店(江西省南昌市洪城路160号) 酒店电话:6408888
南昌富豪酒店距离市中心:车程5分钟、距离火车站:车程5分钟(1.5公里)、距离新昌北机场:30分钟车程(30公里)。
【会议注册费】每人1000元(学生凭有效证件500元)。食宿交通费自理。
【住宿标准】房间分标准双人间和大床单人间
标准双人间:150元/床/天、大床单人间:270元/间/天。
【联系方式】电话:(010)60250760,13621104338;E-mail:bychenyz@sina.com
或bychenyz@sohu.com 联系人:陈月增
【特别提示】
1.今年是南昌会议和会展的高峰期,为了确定住房和会议的准备工作,请准确填写下面的回执,并务必(因住宿紧张)于8月10日前传真(010-60250760)或邮件(北京大兴工业开发区前高米店盛坊路仪器仪表基地北仪创新公司 陈月增收 邮编:102600)确认。
2.请代表带齐身份证、老年证、学生证、军官证等相关证件,以备需要时使用。
3.会议期间录用的论文将全部可以在杂志(“真空科学与技术学报”或“真空”)正刊上发表。会议备有计算机和多媒体设备,请论文报告者制作相关电子文挡。
4.为满足代表们的投稿要求,组委会决定将征文截止日期延长至2011年8月10日(详见附件“TFC,11全国薄膜技术学术研讨会征集论文最后一轮通知”)
中国真空学会薄膜专业委员会
2011年7月10日
TFC,11全国薄膜技术学术研讨会参会代表回执
2011年 月 日
姓 名 |
性别 |
出生年 |
职务/职称 |
办公电话 |
移动电话 |
Email | ||
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单位名称 |
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通讯地址 |
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邮编 |
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预定住宿 |
预定一个床位(可与其他代表合住) □ (划“√”)
预定一个双人间(不合住) □ (划“√”) 预定一个单人间 □ (划“√”
如多人参会或携带家属,请注明住宿情况 | |||||||
预定
返程票 |
返程时间: 起止地点: 车次: 数量: | |||||||
是否旅游 |
是 □ 否 □ | |||||||
注:家属参会,需缴纳300元餐费加600元旅游费
因住宿紧张,请务必在8月10日前返回回执
附件:
TFC,11全国薄膜技术学术研讨会征集论文
最后一轮通知
“TFC,11全国薄膜技术学术研讨会”将由中国真空学会薄膜专业委员会主办,南昌航空大学协办。学术研讨定于2011年8月26-27日在江西南昌市举行,会后安排旅游,旅游的地点、时间见报到通知。本通知将全面征集会议学术论文。
一、征文范围:
1. 当代薄膜科学与技术的展望;
2. 薄膜技术成膜机理或最新理论;
3. 薄膜产业化发展的综述;
4. 信息存储薄膜的发展;
5. 平板显示器的薄膜技术发展综述;
6. 光学薄膜制备工艺的最新进展;
7. 微电子薄膜技术的最新发展;
8. 与新能源、新材料等相关的薄膜技术;
9. 硬质薄膜技术的最新发展及应用;
10. 纳米多层薄膜研制与展望;
11. 新的功能薄膜技术最新成果与展望;
12. 大面积镀膜、规模化生产的薄膜工艺技术的最新发展;
13. PVD(物理气相沉积)和CVD(化学气相沉积)研制的新设备、新成果;
14. 薄膜性能测试与分析;
15. 其他薄膜制备的新技术、新工艺及应用;
二、征文要求:
1. 征文截止日期为2011年8月10日,请寄1000字以内的论文详细摘要小样,可直接编入论文摘要集,论文摘要及全文请采用电子邮件投稿。
2. 论文摘要格式:标题(3号黑体、标题下空一行、居中),作者、单位(5号楷体),摘要(小四号宋体),限定为一页A4复印纸上(21.0x29.7cm2),行距1.5倍,打印范围不得超出(14.5x22cm2),上边距4.7cm,下边距3cm,两边各为3.25cm,不要页码和页眉。
3. 论文应重点突出,论据充分,措词严谨,文责自负。已在其他学术会议或刊物上发表过的论文请勿投稿。
4. 录用的论文电子邮件的形式通知,为避免遗漏未接到录用通知和未录用解释的作者可电子邮件询问,请自行保留底稿,一律不退。
5. 会议期间交论文全文,会议将根据论文质量推荐在《真空科学与技术学报》和《真空》杂志上发表。
三、会议方式:会议学术活动的组织方式考虑下列形式:
1.以自荐、推荐和特邀的方式,组织大会学术报告。
大会学术报告时间为三十分钟。目前需各方面人士自荐、推荐大会学术报告命题和报告人。
2.分组交流。
专题学术论文报告会和专题讨论会。专题学术论文报告会按通常学术交流会的方式进行,按专题分会场。论文正在广泛征集中,请各位督促、推荐和自报。
3.汇编论文摘要集,与会代表人手一册。
4.组织相关的薄膜产业小型产品展示。
四、联系方式:
地址:北京大兴工业开发区前高米店盛坊路仪器仪表基地北仪创新公司 邮编:102600
联系人:陈月增 电话/传真: 010-60250760、13621104338/010-60250760
E-mail: bychenyz@sina.com或bychenyz@sohu.com
诚挚和热情的欢迎您参加会议,参会代表请务必在8月10日前返回回执。
中国真空学会薄膜专业委员会
2011年7月10日
联系方式
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