2026年半导体、光学工程与电子电路国际会议（ISOEC 2026）

2026 International Conference on Semiconductor, Optical Engineering and Electronic Circuits（ISOEC 2026）

●重要信息

会议地点：杭州，中国

截稿时间：以官网为准（延期投稿者请联系大会蒋老师咨询）

会议网址：www.global-meetings.com/isoec

投递邮箱：irbectgom_info@163.com【投稿请附言：ISOEC 2026+通讯作者姓名+蒋老师推荐】，否则无法确认您的稿件。

接受/拒稿通知：投稿后3个工作日左右

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组团/学生投稿、参会均可申请优惠！！请联系会务蒋老师！

【核心期刊&普刊推荐】

● 国际顶刊资源：

1. SCI：涵盖各分区期刊，精准匹配研究方向

2. SSCI/A&HCI：社会科学，艺术人文领域优质刊源

3. EI Compendex：工程索引权威期刊/会议

● 国内核心期刊&普刊：

1. 北大核心，科技核心最新版目录期刊

2. 高质量普刊（知网/万方/维普收录），国际英文期刊安排

●论文收录

所有的投稿都必须经过2-3位组委会专家审稿，经过严格的审稿之后，最终所有录用的论文将以会议论文集形式出版，见刊后提交至Scopus、EI Compendex、CPCI、CNKI、Google Scholar检索，目前检索稳定！

●会议简介

2026年半导体、光学工程与电子电路国际会议（ISOEC 2026）定于中国杭州举行。大会将围绕“半导体、光学工程与电子电路”等相关最新研究领域，为来自国内外高等院校、科学研究所、企事业单位的专家、教授、学者、工程师等提供一个分享专业经验，扩大专业网络，面对面交流新思想以及展示研究成果的国际平台，探讨本领域发展所面临的关键性挑战问题和研究方向，以期推动该领域理论、技术在高校和企业的发展和应用，也为参会者建立业务或研究上的联系以及寻找未来事业上的全球合作伙伴。

●征文主题（以下主题包括但不限于）

主题1.半导体

材料科学

半导体自旋物理与拓扑现象

半导体纳米与器件

宽/窄的带隙半导体

化合物半导体/磁性半导体/有机半导体

先进光刻胶

光电和光伏器件

半导体物理学/半导体量子计算

半导体材料与器件可靠性

半导体制造与应用

新兴半导体技术

3D半导体器件技术

传感器/全集成自动化/自动检测

主题2.光学工程

光学仪器及技术

激光及激光器技术

激光应用技术/微结构光学

光通信器件与系统技术

光电成像技术/光电仪器设计

现代光学技术/量子化技术/数字化技术

光学工程

光电子技术/光信息技术/光传感器

薄膜和集成光学

光学信息处理/先进传感器技术

光电探测技术与器件

光电显示与三维成像

微位移测量与控制

微机电系统

主题3.电子电路

高效电源管理电路

模拟和数字混合电路设计

射频与微波电路设计

集成电路设计与封装技术

电路仿真与建模

自适应与重构电路

电路仿真工具开发与优化

5G及后5G时代电路技术

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●投稿说明

1.论文应为原创文章且从未公开发表，投稿论文需全英文，请严格按照模板的格式修改文章格式，文章不得少于6页。

2.如需翻译润色服务，请联系会议秘书蒋老师，学生作者或多篇投稿有优惠。

3.作者可通过Turnitin或其他查询系统查重，否则由文章重复率引起的被拒搞将由作者自行承担责任。涉嫌抄袭的论文将不被出版。

4.投稿文章流程：投稿→审稿→录用→缴费→【注册参会】→见刊→论文集→检索。

●参会方式

1.口头报告：参会汇报请与大会秘书联系，提交报告题目及摘要以供审核。（摘要不出版）

2.听众参会：欢迎联系大会秘书完成注册，以听众身份参会。无需提交摘要或海报，可全程聆听会议报告。