2026年创新设计与数字技术国际学术会议（IDDT 2026）

2026 International Conference on Innovative Design and Digital Technology（IDDT 2026）

会议地点：武汉，中国

截稿时间：以官网为准（延期投稿者请联系大会老师咨询）

网址：www.global-meetings.com/iddt

邮箱:ei_mhmefh@163.com（备注詹老师推荐享优先审稿和投稿优惠）

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●会议简介

2026年创新设计与数字技术国际学术会议（IDDT 2026）定在中国武汉举行。旨在为从事创新设计与数字技术的科研学者、技术人员及相关人员提供一个共享科研成果和前沿技术，了解学术发展趋势，拓宽研究思路，加强学术研究和探讨，促进学术成果产业化合作的平台。大会诚邀国内外高校、科研机构专家、学者，企业界人士及其他相关人员参会交流。

●论文收录

向IDDT 2026提交的所有全文都可以用英语书写，并将发送给至少两名评审员，并根据原创性、技术或研究内容或深度、正确性、与会议的相关性、贡献和可读性进行评估。IDDT 2026所有被接受的论文将在会议记录中发表，并提交给Scopus、EI Compendex、CPCI、CNKI、Google Scholar进行索引。

●征文主题

（主题包括但不限于）

主题一：创新设计

产品设计

环境设计

建筑设计

广告设计

展览设计

环境规划

工业产品设计

动画设计

应用研究

智能机电设计

智能工业设计

智能环境设计

智能建筑设计

数字化设计

创新设计

可持续设计

虚拟设计

设计认知

新媒体设计

工业设计

服务设计

多学科融合设计

主题二：数字技术

数字媒体艺术

视觉传媒设计

数字设计分析

智能设计

智慧乡村与未来社区

传统文化数字化传播

智能装备及创新设计

基础理论

智能交互与用户体验

数字生态及伦理研究

数据分析及文本挖掘

计算机艺术

装置艺术

视觉设计

绘图技术

数码媒体

创新技术

数字媒体艺术

电脑辅助设计

人机界面设计

多媒体应用艺术设计

数字化游戏设计

虚拟现实应用设计

网络设计

●提交论文

1.直接将您的文章或摘要投到我们的会议邮箱，我们收到后会第一时间回复您。

投稿邮箱：ei_mhmefh@163.com（备注詹老师推荐享优先审稿和投稿优惠）

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2.审稿流程：作者投稿-稿件收到确认（1个工作日）-初审(1-3工作日) -告知结果（接受/拒稿），越早投稿越早收到文章结果。

●投稿说明

1.本会议官方语言为英语，投稿者务必用英语撰写论文。

2.稿件应为原创作品，未在国内外刊物上发表过,不接受一稿多投。作者可通过Turnitin查询系统查重。涉嫌抄袭的论文将不被出版。

3.请根据格式模板文件编辑您的文章。

4.文章至少4页。学生作者或多篇投稿有优惠。

5.只做报告不发表论文的作者只需提交摘要。

6.投稿主题请注明:IDDT 2026+通讯作者姓名（否则无法确认您的稿件）