2026年精密工程与微纳制造国际会议（PEMNF 2026）

2026 International Conference on Precision Engineering and Micro-Nano Fabrication（PEMNF 2026）

【会议亮点】

1、IEEE、IOP、SPIE等权威出版社

2、有ISSN、ISBN号

3、高录用|快见刊

4、团队/学生投稿优惠！！！

5、其他资源请咨询会议邓老师：SCI、SSCI、AHCI、中文核心、普刊

6、可口头汇报/旁听

【重要信息】

会议地点：成都，中国

截稿时间：以官网为准（延期投稿者/咨询相关会议 请联系大会老师）

邮箱：（投稿主题请注明：PEMNF 2026+通讯作者姓名+邓老师推荐，否则无法确认您的稿件）

接受/拒稿通知：投稿后3-5天内！

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【论文收录】

1.向PEMNF 2026提交的所有全文都可以用英语书写，并将发送给至少两名评审员，并根据原创性、技术或研究内容或深度、正确性、与会议的相关性、贡献和可读性进行评估。PEMNF 2026所有被接受的论文将在会议记录中发表，并提交给Scopus、EI Compendex、CPCI、CNKI、Google Scholar进行索引。

2.审稿流程：作者投稿-稿件收到确认（1个工作日）-初审(1-3工作日) -告知结果（接受/拒稿），越早投稿越早收到文章结果。

【大会简介】

2026年精密工程与微纳制造国际会议（PEMNF 2026）将在中国成都召开。本次会议旨在汇聚全球范围内相关领域的研究人员、科学家、工程师与学者，共同探讨前沿科学技术与创新应用，推动学术交流与产学研合作。会议将展示最新研究成果、交流技术经验、展望未来发展方向，为与会者提供一个高水平的国际化学术平台。我们诚挚邀请海内外专家学者踊跃参与，携手促进该领域理论创新、技术突破与产业应用。

【征文主题】

（以下主题包括但不限于）

主题一：精密工程

多尺度/多物理场建模与仿真

结构优化设计与拓扑优化

公差、误差与精度理论

微纳尺度精密测量技术与仪器

在线检测与监控技术

新型传感器与执行器

超精密定位技术、导轨与驱动

主动/被动振动控制

宏微复合驱动系统

主题二：微纳制造

超精密磨削

抛光和飞切

原子级表面制造（CMP, EEM）

表面功能结构制造与改性

微纳尺度3D打印（双光子聚合等）

微细电加工

激光加工

聚焦离子束加工

MEMS/NEMS器件设计与制造

半导体前道与后道工艺

先进封装与系统集成

【投稿说明】

1.本会议官方语言为英语，投稿者务必用英语撰写论文。如需翻译服务，请联系会议组邓老师。

2.论文应具有学术或实用价值，未在国内外学术期刊或会议发表过。作者可通过CrossCheck, Turnitin或其他查询系统自费查重，否则由文章重复率引起的被拒搞将由作者自行承担责任。涉嫌抄袭的论文将不被出版。

3.文章至少6页。请根据格式模板文件编辑您的文章。学生作者或多篇投稿有优惠。

4.只做报告不发表论文的作者只需提交摘要。

5.投稿主题请注明:PEMNF 2026+通讯作者姓名+邓老师推荐（否则无法确认您的稿件）