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2026年电子信息技术、半导体与集成电路国际会议(EITSIC 2026)
会议日期:2026-8-20 至 2026-8-21
会议地点:昆明市(线上+线下会议)
收录检索:Ei,Scopus,CPCI,Google Scholar,Researchgate
会议简介

2026年电子信息技术、半导体与集成电路国际会议EITSIC 2026

2026 International Conference on Electronic Information Technology, Semiconductors, and Integrated Circuits(EITSIC 2026)


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●重要信息

大会地点:昆明,中国

大会召开/截稿时间:以官网为准(早投稿、早审核、早录用)

投稿请附言:EITSIC 2026+通讯作者姓名+龙老师推荐】,否则无法确认您的稿件

接受/拒稿通知:投稿后2-3个工作日左右

出版检索:Scopus、EI Compendex、CPCI、CNKI、Google Scholar,目前检索稳定


●大会简介

2026年电子信息技术、半导体与集成电路国际会议(EITSIC 2026)将在中国昆明举行。会议旨在为从事”电子信息”、“半导体”与“集成电路”研究的专家学者提供一个共享科研成果和前沿技术,了解学术发展趋势,拓宽研究思路,加强学术研究和探讨,促进学术成果产业化合作的平台。大会诚邀国内外高校、科研机构专家、学者,企业界人士及其他相关人员参会交流。

 

●论文出版

所有的投稿都必须经过2-3位组委会专家审稿,经过严格的审稿之后,最终所有录用的论文将以会以论文集形式出版,见刊后提交至Scopus、EI Compendex、CPCI、CNKI、Google Scholar检索。

 

●征文主题(包括但不仅限于以下主题)

Track 1:电子信息

通信技术

信号传输

信号处理

电路基础

交换技术

无线技术

光纤通

集成电路

微电子技术

物理电子学

通信电子线路

数字电子技术

新型半导体材料

纳米电子器件

柔性电子技术

能源电子器件

传感器技术发展

量子电子器件

微机电系统(MEMS)

有机电子材料

电子封装技术

磁性电子材料等

Track 2:半导体

极紫外光刻(EUV)技术

3D集成电路及其制造工艺

先进封装与测试技术

半导体制造工艺优化与自动化

新型半导体材料(如碳化硅、氮化镓和二维材料)

先进CMOS技术

高效功率半导体器件

纳米尺度电子器件

Track 3:集成电路

高性能集成电路设计

数字电路设计

模拟电路设计

ADC/DAC设计

低功耗逻辑电路设计

FPGA架构设计

嵌入式处理器及系统设计

射频前端设计与优化

集成传感器设计

微细加工工艺

光刻技术

先进封装技术,如TSV,CuNCAP

集成电路的老化与故障分析

集成电路安全

集成电动汽车驱动系统的设计和优化

故障诊断与故障修复技术

其他相关主题均可投稿

 

●投稿须知

1.论文应为原创文章且从未公开发表,投稿论文需全英文,请严格按照模板的格式修改文章格式,文章不得少于6页。

2.如需翻译润色服务,请联系会议秘书龙老师,学生作者或多篇投稿有优惠。

3.作者可通过Turnitin或其他查询系统查重,否则由文章重复率引起的被拒搞将由作者自行承担责任。涉嫌抄袭的论文将不被出版。

4.投稿文章流程:投稿→审稿→录用→缴费→【注册参会】→见刊→论文集→检索。

●参会方式

1.口头演讲:投递摘要审核,申请口头报告,时间为10分钟(摘要不出版);

2.听众参会:无需提交稿件,直接注册听众参会即可。



联系方式

●   大会官网:www.confs-online.com/eitsic

会议邮箱:eiconference_cpci@163.com

会议秘书:龙老师

电话咨询:15680824621(微信同号)

QQ咨询:1435571820

【添加获投稿优惠、优先审稿,及后续会议通知、见刊和检索等】

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