2026AI工业软件、芯片工艺与视觉处理国际会议(ISCTVP 2026)
2026 International Conference on AI Industrial Software, Chip Technology, and Visual Processing(ISCTVP 2026)
【核心期刊&普刊资源推荐】
1. 国外核心期刊:SCI/SSCI/AHCI/EI/Scopus期刊
2. 国内核心期刊:北大/科技/南大核心
3. 国内普刊:知网/维普/万方
4. 国际英文刊:知网/Google检索
5. 专著/教材:主编/副主编
●重要信息
会议地点:沈阳,中国
会议截稿时间:2026年9月23日
会议召开时间:2026年10月08日(暂定)
截稿时间:以官网信息为准(早投稿、早审核、早录用)
【邮件主题请附言:ISCTVP 2026+通讯作者姓名+叶老师推荐】,否则无法确认您的稿件
接受/拒稿通知:投稿后3-5天左右
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●会议简介
2026AI工业软件、芯片工艺与视觉处理国际会议将于2026年于中国沈阳召开。会议将围绕AI工业软件、芯片工艺与视觉处理领域中的最新研究成果,为来自国内外高等院校、科学研究所、企事业单位的专家、教授、学者、工程师等提供一个分享专业经验,扩大专业网络,面对面交流新思想以及展示研究成果的国际平台,探讨本领域发展所面临的关键性挑战问题和研究方向,以期推动该领域理论、技术在高校和企业的发展和应用,也为参会者建立业务或研究上的联系以及寻找未来事业上的全球合作伙伴。
●论文收录
所有向ISCTVP 2026提交的所有投稿都均以全英文书写,稿件须经过2-3位组委会专家审稿,经过严格的审稿之后,最终所有被接受的论文将以会议论文集形式发表,并提交 EI 、CPCI、Google Scholar、CrossRef、ResearchGate 进行索引
●征文主题
(以下主题包括但不限于)
主题一:AI工业软件
工业人工智能软件设计与开发、基于机器学习的工业软件、数据驱动的工业软件系统、面向过程优化的工业 AI 算法软件、工业大数据软件及分析工具、面向工业应用的数字孪生软件、工业场景负责任人工智能软件、工业知识图谱软件及推理工具、面向工业物联网的边缘智能软件、工业信息物理系统人工智能软件、工业控制强化学习软件、工业智能决策软件系统、基于人工智能的工业质量检测软件、工业自动化人工智能软件、工业人工智能软件安全与隐私保护
主题二:芯片工艺
先进光刻工艺技术、刻蚀工艺与调控、薄膜沉积工艺、离子注入工艺优化、化学机械抛光工艺、晶圆键合工艺技术、芯片湿法清洗工艺、先进互连制造工艺、工艺缺陷检测与管控、芯片制造良率提升
主题三:视觉处理
工业图像处理算法与软件、面向工业检测的机器视觉处理、工业视觉处理中的目标检测与识别、工业视频处理与分析系统、三维视觉处理与点云分析、制造领域视觉缺陷检测处理、多模态视觉融合处理技术、面向视觉处理系统的深度学习、工业视觉跟踪与测量处理、视觉定位与导航处理、工业场景图像分割处理、工业机器人视觉感知处理、工业光学成像与视觉处理、高速视觉处理软件、工业可视化与数字处理
●投稿方式
1.直接将您的文章(以word文档形式),投至组委会邮箱
(邮件主题请附言:ISCTVP 2026+通讯作者姓名+叶老师推荐),如需翻译,请联系大会叶老师!
2. 审稿流程:作者投稿-稿件收到确认(1个工作日)-初审(1-3工作日)-告知结果(接受/拒稿),越早投稿越早收到文章结果。
●投稿说明
1.本会议官方语言为英语,投稿者务必用英语撰写论文。
2.稿件需为原创且未曾发表过,不接受一稿多投。
3.作者可通过Turnitin等查询系统查重。涉嫌抄袭的论文将不被出版。
4.文章至少6页,请根据格式模板文件编辑您的文章。学生或团队多篇投稿有优惠。
5.只做报告不发表论文的作者只需提交摘要。
6.投稿请附言:ISCTVP 2026+通讯作者姓名+叶老师推荐,否则无法确认您的稿件。
投稿邮箱:icwstre_info@126.com(备注:ISCTVP+姓名)
大会秘书:叶老师
手机/微信:17162862552
QQ:3928825776
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