2026激光、光学工程与电子技术国际会议(ICLOEEM 2026)

重要信息

会议官网：www.global-meetings.com/icloeem

会议地址：长沙

（先投稿，先审核，先提交出版检索）

最终截稿时间：以官网为准（抓紧投稿！延期投稿请联系组委会老师）

投稿邮箱：iccceees_info@126.com投稿时请在邮件正文备注：叶老师推荐享投稿优惠

大会简介

2026激光、光学工程与电子技术国际会议(ICLOEEM 2026)将于2026年以线上会议的形式举行。会议仍将围绕“激光、光学工程与电子技术”的最新研究领域，为来自国内外高等院校、科学研究所、企事业单位的专家、教授、学者、工程师等提供一个分享专业经验，扩大专业网络，面对面交流新思想以及展示研究成果的国际平台，探讨本领域发展所面临的关键性挑战问题和研究方向，以期推动该领域理论、技术在高校和企业的发展和应用，也为参会者建立业务或研究上的联系以及寻找未来事业上的全球合作伙伴

征稿主题

（以下主题包括但不限于）

主题一：激光

激光的原理

几何光学

激光加工系统

波动光学

激光加工工艺

量子光学

激光器分类及构成

大气与环境光学

激光的应用

晶体光学及超材料

激光生物学

电磁波

主题二：光学工程

光电子技术

光信息技术

光传感器

薄膜和集成光学

光学信息处理

先进传感器技术

光电探测技术与器件

光电显示与三维成像

微位移测量与控制

微机电系统

光电成像技术

光电仪器设计

现代光学技术

量子化技术

数字化技术

光学工程

主题三：电子技术

Analog （模拟） 电子技术

Digital （数字） 电子技术

电力电子技术

可变流技术

电子器件设备

电子信号

电力电子与电力传输

巨型区域微电子学

数字电子学

电子信息工程

自适应信号处理

高级电磁学

MEMS元件技术

电子系统级设计

电子学和纳米电子学

外延和发光二极管

光纤和光纤设备

三维半导体器件技术

论文出版

所有投稿都必须先经过2-3位专家审稿，评审录用后，文章将以会议论文集的形式出版，最终提交EI、CPCI、Google Scholar、CrossRef、ResearchGate等检索。

◆投稿方式：

1.英文投稿：请将英文稿件全文（WORD+PDF）直接上传至iccceees_info@126.com如需翻译请联系叶老师.

2.审稿流程：作者投稿-稿件收到确认（1个工作日）-初审(1-3工作日) -告知结果（接受/拒稿），越早投稿越早收到文章结果。

◆投稿说明：

1.本会议官方语言为英语，投稿者务必用英语撰写论文。

2.稿件应为原创作品，未在国内外刊物上发表过,不接受一稿多投。作者可通过Turnitin查询系统查重。涉嫌抄袭的论文将不被出版。

3.请根据格式模板文件编辑您的文章。

4.文章至少6页。学生作者或多篇投稿有优惠。

5.只做报告不发表论文的作者只需提交摘要。

6.投稿主题请注明:ICLOEEM 2026+通讯作者姓名（否则无法确认您的稿件）