2026年半导体、集成电路与仿真设计国际会议(SICSD 2026)
2026 International Conference on Semiconductors, Integrated Circuits and Simulation Design(SICSD 2026)
【核心期刊&普刊推荐】
● 国际顶刊资源:
1、SCI/SSCI/A&HCI:涵盖各分区期刊,精准匹配研究方向
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● 国内核心期刊&普刊:
1、北大核心,科技核心最新版目录期刊
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【重要信息】
网址:www.confs-online.com/sicsd
IEEE、IOP、SPIE等权威出版社
会议地点:郑州,中国
截稿时间:以官网为准(延期投稿者/咨询相关会议 请联系大会老师)
邮箱投稿(投稿主题请注明:SICSD 2026+通讯作者姓名,否则无法确认您的稿件)
接受/拒稿通知:投稿后3-5天内!
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2026年半导体、集成电路与仿真设计国际会议(SICSD 2026)将在中国郑州召开。本次会议会致力于构筑全球顶尖的学术对话与产业融通高地,诚邀海内外杰出学者、技术先驱及行业领袖齐聚一堂。会议将深度聚焦前沿理论突破与关键核心技术,系统展示最新科研转化成果,分享跨学科实践经验,共谋未来技术演进路径。我们旨在通过高强度的思想碰撞与资源整合,激发创新动能,推动产学研用一体化进程,诚邀您共襄盛举,携手开启领域发展的新纪元。
【论文收录】
1.向SICSD 2026提交的所有全文都可以用英语书写,并将发送给至少两名评审员,并根据原创性、技术或研究内容或深度、正确性、与会议的相关性、贡献和可读性进行评估。SICSD 2026所有被接受的论文将在会议记录中发表,并提交给Scopus、EI Compendex、CPCI、CNKI、Google Scholar进行索引。
2.审稿流程:作者投稿-稿件收到确认(1个工作日)-初审(1-3工作日) -告知结果(接受/拒稿),越早投稿越早收到文章结果。
【征文主题】
(以下主题包括但不限于)
半导体物理基础
半导体材料与特性
硅基半导体技术
宽禁带半导体(SiC/GaN)
化合物半导体(GaAs/InP)
有机与柔性半导体
二维半导体材料
半导体器件物理
半导体工艺技术
光刻与刻蚀技术
薄膜沉积与掺杂
半导体封装技术
半导体测试与可靠性
功率半导体器件
射频半导体器件
光电子半导体器件
MEMS与半导体融合
半导体设计自动化(EDA)
半导体器件建模与仿真
半导体热管理技术
半导体失效分析
半导体先进工艺节点
半导体材料表征
半导体传感器
题目二:集成电路
集成电路基础理论
数字集成电路设计
模拟集成电路设计
射频集成电路设计
混合信号电路设计
系统级芯片(SoC)设计
存储芯片设计
集成电路设计自动化
集成电路验证与测试
集成电路版图设计
集成电路工艺技术
集成电路封装技术
集成电路可靠性分析
集成电路功耗优化
集成电路信号完整性
集成电路EMC设计
集成电路可测性设计
嵌入式存储器设计
数据转换器设计
功率集成电路设计
时钟与锁相环设计
接口集成电路设计
主题三:仿真设计
仿真设计基础理论
EDA工具与平台
集成电路仿真方法
电路级仿真(SPICE)
逻辑仿真与验证
时序仿真与分析
混合信号仿真
版图寄生参数提取
信号完整性仿真
电源完整性仿真
电磁场仿真
热仿真与热分析
工艺仿真与建模
器件仿真(TCAD)
系统级仿真
行为级建模
硬件描述语言仿真
仿真加速与优化
仿真结果分析
仿真与测试相关性
设计规则检查
物理验证与DRC
仿真设计协同优化
仿真设计标准化
【投稿说明】
1.本会议官方语言为英语,投稿者务必用英语撰写论文。如需翻译服务,请联系会议组墨老师。
2.论文应具有学术或实用价值,未在国内外学术期刊或会议发表过。作者可通过CrossCheck, Turnitin或其他查询系统自费查重,否则由文章重复率引起的被拒搞将由作者自行承担责任。涉嫌抄袭的论文将不被出版。
3.文章至少6页。请根据格式模板文件编辑您的文章。学生作者或多篇投稿有优惠。
4.只做报告不发表论文的作者只需提交摘要。
5.投稿主题请注明:SICSD 2026+通讯作者姓名(否则无法确认您的稿件)
会议官网:www.confs-online.com/sicsd
邮箱:ei_article@163.com
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